- 答えは、半導体加工に使うEUVを発生させるスズ薄膜球をシャボン玉で作るよ。
え、私ですか？ 半導体加工ですか！？
- 「微細な構造を持つ最先端の半導体」を加工するため今注目されているもの。
- そう、「極端紫外線（EUV:Extreme Ultraviolet）」
- EUVは、波長が短い紫外線の中でも10nm前後の最も波長が短い領域の紫外線。
- （1nmは10億分の1m）
- EUVを発生させるには「密度の低い金属であるスズ」にレーザー光を当てる。
- そして「効率的にEUVを発生させる」には「極低密度スズ」が必要。
- そこで、シャボン玉！ 高分子電解質でできた小さなシャボン玉！
- （高分子電解質は「電気を通す高分子」薄膜化や固体化ができる）
- これを型に、スズの薄膜でできた低密度の球体を作った。
- 型となるシャボン玉をスズの細かい粒子で覆って作成した「スズ薄膜球」――
- これにレーザー光を照射することで13.5nmの波長を持つEUVを発生できた！
- （東京工業大学の研究グループによる開発）
- この手法は「低コストで安定したスズ薄膜球の作成」を可能にした。
- この原理を応用して、さらに波長の短いEUV光源の開発を目指しているよ。
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